[학술지 제8권-07] 첨단 반도체 EUV 리소그래피 기술과 국제안보 정세_전영민

 2018년에는 전 세계적으로 반도체산업에 대한 보호무역주의가 시작됐는데, 일본의 경제보복조치에 따른 대한국 수출규제와 미중 경제갈등에 따른 첨단 반도체 장비의 대중국 수출규제조치의 중심에는 EUV 리소그래피 기술이 있다. 반도체 성능을 높이기 위해서는 광리소그래피에 사용하는 파장을 줄여야하는데 EUV 리소그래피애 사용하는 파장은 13.5nm로서 기존의 193nm의 DUV 리소그래피보다 14배이상 짧아 유리하지만, 기존에는 없었던 엄청난 기술적 난제가 있어 세계적으로 독점적인 기술을 가진 ASML사와, Carl-Ziess사를 비롯한 핵심적인 기술업체들에 의해서 대체불가능한 특수성을 가지고 있다. 이에 전략물자수출통제체제 가입국가들이 미국을 중심으로 중국의 불공정한 무역관행 및 반도체굴기를 견제하고 무역적자를 해소하며 기술적 우위를 계속 유지하도록 이를 이용하고 있다. 본 연구에서는 EUV 리소그래피 기술의 특수성을 이해하고, 한일관계 및 미중관계에 따른 국제안보 정세를 분석한다.